Современная индустрия полупроводников переживает один из самых значимых этапов своего развития. Рост вычислительной мощности, уменьшение энергопотребления и постоянное сокращение размеров транзисторов требуют принципиально новых подходов к производству микросхем. Одной из ключевых технологий, позволивших перейти на новый уровень, стала EUV-литография — метод, который уже сегодня лежит в основе создания самых передовых процессоров.